機(jī)械拋光機(jī)與電化學(xué)拋光機(jī)的區(qū)別 時間：2022-08-18 機(jī)械拋光機(jī)與電化學(xué)拋光機(jī)的區(qū)別 電化學(xué)拋光機(jī)拋光法： 1.通過電化學(xué)溶解的方法使金屬表面獲得平滑或光亮的表面效果。 2.部分材料表面會出現(xiàn)氧化膜形成。 3.拋光表面的耐蝕性好，光亮面的持續(xù)時間長。 4.基體材料的構(gòu)成與結(jié)構(gòu)對拋光表面效果影響大。 5.缺點是拋光后會殘留大的凹凸處條紋。 6.改變材質(zhì)和拋光條件易獲得亞光或橘皮狀表面。 7.優(yōu)點是形狀復(fù)雜、細(xì)小的零件及薄極易于拋光。 8.另外化學(xué)拋光速度快，產(chǎn)量大，生產(chǎn)率高，易自動化生產(chǎn)。 9.缺點是大件物品拋光難。 10.適于軟質(zhì)合金的拋光。 11.拋光材料的消耗少，成本較低。 12.拋光面無應(yīng)力，不會夾雜磨料。 13.可提高硅鋼片的導(dǎo)磁率10%—15%，降低滯后損失10%—12%。 機(jī)械拋光機(jī)拋光法： 1.通過切削、變形和磨耗使金屬表面光滑或光亮的表面效果。 2.表面會形成冷作硬化的變形層。 3.缺點是耐蝕性差，光亮持續(xù)時間短。 4.優(yōu)點主要是基體材料對拋光效果的影響很小。 5.產(chǎn)品表面不留凹凸處和條紋。 6.無法獲得亞光和橘皮狀表面。